「アモルファス酸化物半導体」

　2026年度第1回ガラス科学技術研究会では、「アモルファス酸化物」をテーマに、東京科学大学
の細野秀雄先生にご講演いただきます。

 細野秀雄先生は、アモルファス酸化物半導体「IGZO」を創出し、電子デバイス材料の概念を刷新
した世界的研究者です。物質高移動度とスイッチ特性を備えたアモルファスIGZOは、高精細・低
消費電力ディスプレイを可能にした革新的材料として実用化され、産業界を変えました。本講演
では、IGZO誕生の科学的背景と、切り拓かれた新たなアモルファス酸化物エレクトロニクスの地
平をご紹介いただきます。
 今回のガラス科学技術研究会は対面とオンラインを組み合わせたハイブリッド方式で行います。
また参加者同士の交流を深めるために、講演終了後に技術交流会を行いますので、ぜひご参加く
ださい。


1. 日時：2026年7月24日（金）
　　　    講演　：15：00～16：45
　　　    技術交流会：16:45～18:00
　　　　　　・立食形式で、アルコール／ソフトドリンクと軽食のご提供を予定しています。
　　　　　　・細野先生は技術交流会へのご参加を予定しておりますが、当日のご事情によりご
　　　　　　　参加いただけない可能性がございます。
　　　
2. 場所：日本ガラス工業センター　地下会議室
          住所 ： 東京都新宿区百人町3-21-16
          アクセス ： JR山手線 新大久保駅から徒歩６分
                     （ZOOMによるオンラインと併用利用予定）
　　　　
3. プログラム
    3-1. 事務連絡　15:00～15:05
    3-2. 開会挨拶　15:05～15:10
　　　　　　斎藤 全 ガラス科学技術研究会主査（愛媛大学 教授）
    3-3. 講演　　　15:10～16:40（講演75分、質疑応答15分）
　　　　「アモルファス酸化物半導体」　
　　　　　　細野　秀雄 先生（東京科学大学　栄誉教授・特命教授、物質・材料研究機構
　　　　　　　　　　　　　　　特別フェロー）
　　　　【要旨】
　　　　　　現在、ディスプレイの駆動に広く使われているアモルファス酸化物半導体IGZOに　　　　　　　
　　　　　ついて紹介する。
　　　　　　酸化物といえばエレクトニクスでは誘電体であり、まさかアクティブな半導体とし
　　　　　て大規模に応用されるとは思ってもみなかったとの感想を多くの専門家から頂いてい
　　　　　る。昨今では、TFTのオフ電流（スイッチがオフのときに流れる電流）がシリコンより
　　　　　も格段に小さいことを利用して、AI半導体用のメモリーへの応用を目指した研究が、
　　　　　世界中で活況を呈している。研究を始めた動機は、アモルファスでも大きな移動度が
　　　　　得られるという化学結合から考えたシンプルなモデルの妥当性を実際の薄膜で試した
　　　　　いという基礎的な興味であった。それが研究費や共同研究者のお陰で発展し、そこに
　　　　　産業界の強いニーズにマッチした結果である。

　　3-4. 事務連絡　16:40～16:45

4. 研究会参加費について
　　	会員企業の方	：  13,000円
	非会員企業の方	：  25,000円
	官学研究者の方	：   1,000円 ＜年間登録者無料＞

5. 参加申込み
　　　次の1)～8)の事項を記入の上、2026年7月17日（金）までにセミナー研究会窓口まで
     e-mailにてお申込み下さい。追って請求書を送付いたします。
　　　1) 氏名（フリガナ）
　　　2) 所属（会社名・部署）
　　　3) E-mailアドレス
　　　4) 住所
　　　5) TEL番号
　　　6) 参加を希望するセミナー・研究会名
　　　7) 希望する参加方式（現地参加またはWeb参加）
　　　8) 現地参加の場合、技術交流会への出欠

6. その他
     ・会場の収容可能人数に制限がありますので、現地参加を希望されましてもオンラインで
　　　のご参加をお願いする場合があります。
　　 ・オンライン参加の場合，音声の一部が聞き取り難いことがあります。

7. 問い合わせ先
　　一般社団法人ニューガラスフォーラム
　　　　セミナー研究会窓口（yamamoto@ngf.or.jp）　担当：神吉（かんき）
　　　　〒169-0073　東京都新宿区百人町3-21-16　日本ガラス工業センター2F
　　　　TEL:03-6279-2605  FAX:03-5389-5003
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　以上